Содержание к диссертации
Введение
1. Литературный обзор 9
1.1. Сравнительный анализ электролитов цинкования 9
1.2. Основные условия образования блестящих электролити -ческих осадков 14
1.3. Влияние поверхностно-активных органических веществ на кинетику разряда комплексных ионов металлов 22
2. Экспериментальная часть .34
2.1и Потенциодинамические исследования 34
2.2. Хронопотенциометрические измерения 35
2.3. Измерение .емкости двойного электрического слоя 35
2.4. Полярографический метод . 37
2.5. Метод УФ-спектроскопии 39
2..6. Определение отражательной способности, коррозионной устойчивости и микротвердоети гальванических цинковых покрытий 39
2.7. Определение выхода по току и рассеивающей способно сти электролитов 40
3. Исследование электроосавдения цинка из сульфатных электролитов, содержащих некоторые замещенные 42
3.1. Обоснование выбора объектов исследования 42
3.2. Разработка электролитов блестящего цинкования и исследование их гальваностегических характеристик 44
3.3. Полярографическое изучение электрохимического поведения некоторых производных оксипиримидинов 51
3.4. Изучение ингибиторных свойств и адсорбционного поведения производных оксипиримидинов на поверхности цинкового электрода 58
4. Влияние кислотности электролита на механизм действия некоторых замещенных оксипиримидйнов в процессе электроосаідения цинка 69
4.1. Влияние гликокола на электроосаждение цинка из сульфатных электролитов 70
4.2. Хронопотенциометрическое исследование влияния некоторых производных оксипиримидинов на электроосаждение цинка из разбавленных растворов 73.
4.3. Хронопотенциометрическое исследование процесса электроосаждения цинка в электролите с рН=4,0 78
4.4. Хронопотенциометрическое исследование процесса электроосаждения цинка из электролита с рН=2,5 87
Заключение 100
Выводы . 106
Литература 108
- Основные условия образования блестящих электролити -ческих осадков
- Измерение .емкости двойного электрического слоя
- Определение выхода по току и рассеивающей способно сти электролитов
- Полярографическое изучение электрохимического поведения некоторых производных оксипиримидинов
Введение к работе
Электролитическое цинкование является одним из наиболее распространенных технологических процессов в современной гальваностегии. Широкое применение цинковых покрытий обусловлено их высокими защитными свойствами и относительно низкой стой -мостью. Цинковые покрытия применяются главным образом для защиты от коррозии изделий из черных металлов, работающих в наружной атмосфере различных климатических районов, а также в закрытых помещениях, атмосфера которых загрязнена газами и продуктами сгорания. Цинк может находится в контакте со мно -гими химическими средами. Перспективность применения цинковых покрытий кроме того обеспечивается значительными природными запасами цинка [і].
В литературе описано большое число электролитов цинкования. В промышленности применяются преимущественно цианидные электролиты цинкования для покрытия сложнопрофилированных изделий и кислые - для осаждения цинка на изделия простой геометрии. Основным недостатком цианидных электролитов является их высокая токсичность и нестабильность в работе. В последнее время отдается предпочтение кислым электролитам цинкования, содер -жащим различные поверхностно-активные вещества (ПАВ), позво -ляющим получать блестящие покрытия с хорошими защитными свойствами. Такие электролиты являются менее токсичными и не требуют больших затрат на очистку сточных вод.
Главными преимуществами блестящих гальванопокрытий по сравнению с обычными матовыми являются: экономия цветного металла, повышение коррозионной стойкости покрытий, устранение трудо -емкой и вредной операции механической полировки и связанных с
нею затратами, возможность ведения непрерывного технологического процесса при нанесении многослойных покрытий.
В качестве ПАВ исследовано и предложено большое число органических соединений, относящихся к различным классам. Вопрос о механизме влияния ПАВ на протекание электродных реакций до настоящего времени выяснен недостаточно и составляет актуальную задачу теоретической и прикладной электрохимии. Примени -тельно к электроосаждению металлов решение этой задачи открывает широкие возможности интенсификации технологических процессов в гальванотехнике, в улучшении структуры и рзико-ме -ханических свойств гальванических осадков и их коррозионной устойчивости [2].
Изыскание новых, неизученных ПАВ, разработка перспективных электролитов блестящего цинкования с их использованием, а также накопление экспериментальных данных по механизму влияния ПАВ на формирование цинковых покрытий является актуальной задачей.
Целью работы является выяснение возможности применения производных оксипиримидинов в качестве блескообразователей в кислых сульфатных электролитах цинкования и разработка новых перспективных электролитов с их использованием для получения гальванопокрытий с повышенными защитными свойствами. В задачу исследования входит также изучение механизма действия указанных органических соединений на процесс электроосаждения блестящих цинковых покрытий.
Научная новизна. Впервые установлено, что некоторые про -изводные оксипиримидины являются эффективными блескообразова-телями. С помощью хронопотенциометрического и поляризационного методов установлена природа разряжающихся комплексов цин -
- б -
ка в присутствии в электролите органических добавок в зависимости от кислотности. Показано, что блескообразущее действие исследованных оксипиримидинов связано со способностью органической добавки к поверхностному комплексообразованию. Определены гальваностегические характеристики сульфатных электролитов цинкования, содержащих добавки производных оксипиримидинов.
Практическая значимость. Разработаны сульфатные электролиты цинкования, содержащие некоторые производные оксипиримиди-ны и рекомендованы для получения блестящих, толстослойных покрытий с повышенной коррозионной устойчивостью.
На защиту выносится;
результаты экспериментального изучения адсорбции на поверхности цинкового электрода некоторых производных оксипиримидинов и их ингибирующего действия на процесс электровосстанов ления ионов цинка из сульфатного электролита;
экспериментальные данные по изучению влияния гликокола на состояние разряжающихся на катоде комплексов цинка;
результаты исследования механизма ингибирующего действия исследуемых органических веществ в зависимости от кислот -ности рабочего электролита, полученные с помощью методов измерения поляризации на вращающемся дисковом электроде и хро-нопотенциометрии;
рекомендации по составу и использованию сульфатных электролитов с добавками производных оксипиримидинов для получения блестящих гальванических покрытий с повышенной коррозионной стойкостью.
Апробация работы. Основные положения работы докладывались:
На семинаре Современные методы нанесения гальванических и химических покрытий", Москва, 1979.
На научно-практической конференции Проблемы коррозии и пути повышения коррозионной стойкости металлов и материа -лов", Казань, 1980.
На II Всесоюзной конференции молодых ученых по физической химии, Москва, 1983.
На Всесоюзном семинаре Роль комплексообразования в процессах электрокристаллизации металлов", Казань, 1983.
На итоговых научных конференциях ИОФХ им. А.Е. Арбузова -1978, 1983 и 1984 гг.
Публикации. По теме диссертации опубликовано 10 работ и тезисов докладов.
Объем работы. Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения и выводов. Содержит 123 страницы машинописного текс-та, 24 рисунка, 12 таблиц и список литературы из 137 названий.
В первой главе рассмотрены применяемые в настоящее время в промышленности различные типы электролитов цинкования, а также литературные данные по теории механизма блеокообразования в процессе электроосаждения металлов и по влиянию ПАВ на электродные реакции.
Во второй главе описаны основные принципы применяемых мето -дов исследования.
В третьей главе представлены гальваностегические характеристики цинковых покрытий, полученных в электролитах, содержащих исследуемые органические соединения, а также эксперимен -тальные данные по адсорбции и ингибирующему действию этих доба-
вок.
В четвертой главе изложены результаты исследования процесса поверхностного комшіексообразования при электроосаждении блестящих цинковых покрытий.
Основные условия образования блестящих электролити -ческих осадков
Основные условия образования блестящих электролитических осадков. Под блеском поверхности гальванических осадков подразумевают степень зеркального отражения параллельного пучка лучей ви димого света. Свойствами такого отражения обладают гладкие металлические поверхности, линейные размеры микронеровностей ко -торых не превышают длины самых коротких волн лучей видимого света, т»е. 0,4 мкм. Следует отметить, однако, что на зеркаль -ном блеске существенно не сказывается видимая невооруженным глазом волнистость или макронеровность металлической поверхности. Макронеровность поверхности металлов может достигать размеров десятка микрометров, не нарушая ее видимого блеска, Поэто -му шероховатость поверхности металлов при изучении образования блеска целесообразно разбить на две группы [7, с, 82]: I) микронеровность и 2) субмикронная неровность. Под первым понимают выступы и впадины на поверхности металлов, линейные размеры которых находятся в пределах от нескольких единиц до сотен микрометров. К субмикронным неровностям относятся риссы, бугорки и ямочки на поверхности металлов, линейные размеры которых не превышают I мкм.
Если при электроосаждении блестящих гальванических покрытий одновременно происходит видимое сглаживание поверхности, т.е. заполняются риссы и впадины не только субмикронных, но также видимых и микронных неровностей, тогда принято говорить о выравнивающем действии электролита. Однако, между процессами образования блеска осадков и их выравнивания принципиального различия не существует [?, с. 84-]. Блескообразование также является процессом выравнивания покрвваемой поверхности, только в данном случае сглаживаются субмикронные неровности.
До настоящего времени не существует единой теории блескооб -разования. Предложенные теории условно можно разделить на три группы. К первой группе относятся теории, которые предполагают, что отражательная способность блестящих электролитических пок рытий в основном является функцией микрогеометрии их поверхности и определяется формой, ориентацией и размером кристаллов [39-41]. Микроскопические исследования многих авторов показали, что осадки, состоящие из крупных кристаллов, имеют меньший блеск, чем мелкокристаллические. Однако, это предположение не всегда подтверждается на практике. Так, осадки меди из цианидного электролита характеризуются очень тонкой структурой (10" -10 8 м); однако получить блестящие покрытия без специальных блескообрзу-ющих добавок не удается даже в тонких слоях. Другой пример блестящие и матовые осадки хрома имеют практически одинаковую величину зерна J25, с. 44-]. Нет также прямой связи между блеском и ориентацией кристаллов. Для одних блестящих покрытий об -наруживается ось структуры, а для других она не обнаруживается. Так, Н.Т. Кудрявцев [41] показал, что блестящие осадки цинка, полученные из кислого электролита с добавкой натриевой соли 2,6 и 2,7-нафталиндисульфокислоты, имеют явно выраженную текстуру с ориентацией довольно крупных кристаллов по гексагональным осям, в то время как у блестящих осадков никеля, полученных из раст -вора с этой же добавкой, текстура не была обнаружена.
Согласно представлениям К.М. Горбуновой [39 ,40], блеск электролитических осадков зависит не столько от наличия какой-либо оси текстуры, сколько от ее типа. Например, осадки без ориентации кристаллов могут давать лучший блеск, чем неблагоприятно ориентированные. Так, если кристаллы имеют форму куба и плос -кости их граней параллельны плоскости основного металла, то даже при относительно больших размерах кристаллов осадок будет более блестящим, чем осадок с выступающими на поверхность вер -шинами кубов.Многочисленные исследования блестящих и матовых покрытий при помощи электронной и рентгеновской дифракции показали.что блес тящие осадки не обладают какой-либо характерной структурой. Таким образом, между блеском, характером расположения и рамером кристаллов прямой связи нет.
Ко второй группе можно отнести теории блескообразования, которые предполагают наличие пленок на электроде в процессе электроосаждения металла» Так, по мнению Ю.Ю. Матулиса[7], для об -разования блеска необходимо присутствие на поверхности катода вискозных пленок Эти пленки образуются в околоэлектродном пространстве вследствие взаимодействия блескообразователей с раз -ряжающимися ионами или продуктами катодной реакции. Основной их особенностью является своеобразная рыхлость или малокомпактность Такого рода пленка, состоящая в основном из смеси гидроокиси хрома и хроми-хромата, образуется при электролизе хромовой кислоты [4-2], которая приводит к электроосаждению блестящих хромо -вых покрытий лишь после ее разрушения. Образование пленок име -ет место также и при электроосаждении цинка, кадмия и железа из кислых электролитов вследствие образования продуктов гидролиза солей металлов. Однако, блеска покрытий они не вызывают, что, по мнению автора [7, с 91], связано с отсутствием островопо -добной" структуры у этих пленок. Такую структуру, они приобретают лишь под действием блескообразователей.
Авторы адсорбционно-диффузионной модели, Ю Е. Геренрот и Д Л. Лейчкис [43], предлагают следующий механизм блескообразования. Регулирующим фактором при электрокристаллизации является торможение катодного процесса в соответствии с теорией адсорбционной поляризации М.А. Лошкарева [и] в условиях неравнодоетупности отдельных участков поверхности для ингибирующей добавки или коллоидов Неравнодоступность обеспечивается расходованием до -бавки в режиме диффузионного контроля и наличием диффузионного
Измерение .емкости двойного электрического слоя
Хронопотёнциограммы снимали в рабочем электролите, состав которого указан а разделе 2»1. Рабочим электродом служил торец запрессованного в тефлон цинкового цилиндра с площадью р 0,1 см . Перед измерениями электрод механически полировали тонкой образивной бумагой, обезжиривали насыщенным раствором тринатрийфосфата, ацетоном и тщательной промывкой в дистилла-те и бидистиллате. Поляризацию рабочего электрода производи -ли от гальваностата [90] в ячейке объемом 25 мл с цинковым анодом (5д: нк=50 : I). Хронопотёнциограммы регистрировали осциллографом C8-I3. Переходное время измеряли графическим способом [91, с. Пб], а в некоторых случаях методом, описанном в[92]. Потенциалы измеряли относительно хлорсеребряного электрода сравнения. Омические составляющие определяли им -пульсным методом с использованием генератора Г5-54. Воспроиз -водимость результатов составляла - 0,015 В (±3 %). Измерения дифференциальной емкости (Сд) получили широкое распространение при исследовании строения двойного электрического слоя и адсорбционных явлений на электродах. Исследования на твердых электродах связаны со значительными трудностями в получении воспроизводимых результатов. Это вызывает необхо -димость строгой идентификации условий эксперимента, неодно -кратность повторения измерений. Измерения проводили в подкисленном серной кислотой 0,5 М растворе А/а2$0ц (рН=3,7) в четырехэлектродной ячейке ем -костью 25 мл. Рабочий электрод, представляющий собой торец запрессованной в тефлон цинковой проволоки с площадью поверх ности 0,07 см2 и вспомогательный электрод из амальгамиро -ванной меди (р=10 см2) располагали в строго фиксированном положении.
Подготовка рабочего электрода заключалась в следующем: механическая полировка тонкой образивной бумагой, обезжирива -ние насыщенным раствором тринатрийфосфата, электрохимическое полирование в 5 М растворе фосфорной кислоты при плотности тока 50 А/даг в течении 5 минут. После многократной тща -тельной промывки электрод поляризовали в деаэрированном ра -створе фона (0,5 при Е= -1,45 В в течении 20 минут для удаления поверхностных окислов. В этот период из -меряли дисперсию емкости с частотой, если дисперсия превыша -ла 30 % опыт прекращали. Измерение дифференциальной емкости цинкового электрода производили при частоте 5000 Гц через 0,050 В в области потенциалов от -1,45 до -1,00 В. При каж -дом значении потенциала электрод выдерживали в течении 3 минут. За среднее значение принимали величину емкости, опреде -ленную из серии измерений (не менее 20 опытов в растворе фона и не менее 5 - в присутствии органических веществ), про -водимых в строго постоянных условиях эксперимента. Концентрация органической добавки в электролите составляла I«ICTZ М. Воспроизводимость результатов составляла 11,5 мкФ/см2(15%) Электрическая схема применяемой установки принципиально не отличалась от описанной в [93, 94]. Подаваемое от генератора ГЗ-33 на мост Р-568 переменное напряжение контролировали ламповым вольтметром B3-I3. Поляризацию электрода осуществляли от аккумуляторной батареи. Цепь поляризации защищалась от переменного тока дросселем. Изучение адсорбции органических соединений в процессе электровосстановления ионов цинка в рабочем электролите про -водили с помощью метода [95,9б] измерения суммарной поляризационной емкости (Сп).
Суть его заключается в том, что на электрод, находящийся при поляризации, подается быстрый галь-ваностатичесий импульс, изменяющий заряд электрода на вели -чину: (где "г -длительность импульса, I -зарядный ток), а потен -циал электрода - на величину 1 . Сп определяли по зарядной кривой (рис. 2.1.), зная величину тока заряжения: —& Гальваностатические импульсы тока длительностью 1-Ю с задавали генератором Г5-54-. Регистрацию кривых потенциал -время при наложении импульса производили осциллографом C8-I3. Воспроизводимость результатов составляла 15 мкФ/см2 (і 10%). 2.4. Полярографический метод. Электрохимическое поведение исследуемых органических ве -ществ в водных буферных растворах и в диметилформамиде (ДМФА) проводили методами классической и коммутаторной полярографии. Подпрограммы регистрировали полярографом Использовали буферные растворы Мак-Ильвейна с постоянной ионной силой равной 0,5 , что обеспечивали добавлением хлорида калия [97 , с. 117]. Характеристики капилляра: Ш =1,63 мг/с, ТҐ= 0,5 с (принудительный отрыв). В качестве фонового электролита в ап-ротонной среде использовали тетрабутиламмоний иодид (8-Ю М). В диметилформамидных растворах потенциалы измеряли относительно донной ртути, в водных буферных растворах - относительно хлорсеребряного электрода сравнения. Концентрация деполяриза
Определение выхода по току и рассеивающей способно сти электролитов
Определение ВТ цинка проводили в электролизере емкостью 75 мл в гальваностатическом режиме. Осаждение цинка произво -дали на стальные образцы (3=20 ) из рабочего электролита в течении 5 минут с использованием растворимых цинковых анодов Скк» $А= : 5) Количество пропущенного электричества опре -деляли медным кулонометром. ВТ рассчитывали по формуле: где m -количество выделенного вещества (цинка), г; ц -ко -личество электричества, проходящего через раствор, А«с; Э -грамм-эквивалент. Рассеивающую способность сульфатного электролита цинкова -ния определяли с помощью метода логарифмического индекса рассеивания [99] по формуле: где А -логарифмический индекс рассеивания, М -отношение привеса ближнего катода к привесу дальнего катода, L -отно -шение расстояния между анодом и дальним катодом к расстоянию между анодом и ближним катодом. Измерения проводили в ячейке Хэрринга - Блюма [ЮО, с, 388, 397] . Емкость ячейки составляла 150 мл, площадь катодов равнялась I см2, L = 5. Исследование электроосаждения цинка из сульфатных электролитов, содержащих некоторые замещенные оксипиримидины.
Разработка новых электролитов блестящего цинкования не утратила своей актуальности, несмотря на большое количество предложенных добавок. В ряду поверхностно-активных веществ, рекомен -дованных для электролитов цинкования, значительное место отво -дится использованию красителей, полимеров, сложных смесей про -дуктов промышленного органического синтеза. Помимо затруднений, связанных с анализом и корректировкой таких электролитов, спе -циального внимания заслуживают вопросы стабилизации отдельных компонентов блескообразующих смесей, повышение коррозионной стойкости покрытий, возможности получения толстослойных цинко -вых осадков ( 60 мкм) с хорошим декоративным видом без отсло -ений и растрескивания. Исключительную сложность составляют задачи теоретического изучения влияния подобных ПАВ на элект -родный процесс вследствие неопределенности в их составе и строении. Важное значение имеет поиск новых соединений, позволяю -щих упростить анализ и корректировку ванн по органическому ве -ществу, улучшить гальваностегические характеристики электроли -тов и физико-механические свойства цинковых покрытий. С целью создания новых перспективных электролитов для полу -чения блестящих цинковых покрытий использовали следующие орга -нические соединения, синтезированные в ИОФХ: - 44 На основании литературных данных можно было предположить, что эти добавки, имеющие в своем составе атомы азота и кислорода, проявят поверхностно-активные свойства и окажут благоприятное влияние на качество получаемых цинковых покрытий. 3.2.
Разработка электролитов блестящего цинкования и исследование их гальваностегических характеристик. Из литературных данных [Ю1, с; із] следует, что в системе противокоррозионной защиты металлоизделий цинковые покрытия занимают доминирующее положение. Для покрытия поверхностей нес -ложного профиля (прокат, трубы) используется кислый сульфат -ный электролит при интенсивном гидродинамическом режиме электролиза. Однако, существенным препятствием интенсификации про -цесса цинкования является подщелачивание приэлектродного слоя, даже в присутствии буферирующих добавок. В качестве буферирующей добавки в сульфатном электролите цинкования чаще всего используют сульфат алюминия или сульфат аммония-калия, что обеспечивает применение рабочих плотностей тока до 40 А/дм2. Интенсификация процесса в таких электролитах достигается за счет сильного перемешивания и увеличения концентрации сульфата цинка до 2,1 моль/л [l02, с. 125]. В настоящей работе в качестве буферирующей добавки использовали гликокол [юз], который обладает более высокой буферной емкостью и дает возможность расширить диапазон рабочих плотностей тока. Опыты проводили в электролите следующего состава, моль/л: ZdpOi -0,87 , Naz$0H -0,28 , гликокол -0,2 (рабочий электролит). Для выбора оптимального состава и режимов электролиза изу -чали влияние концентрации добавок, плотности тока и рН раствора на ВТ металла и блеск цинковых покрытий. Результаты пред
Полярографическое изучение электрохимического поведения некоторых производных оксипиримидинов
Из обзора литературы следует, что влияние ПАВ на кинетику разряда ионов металлов связано с их способностью адсорбироваться на электродной поверхности, восстанавливаться в процессе электролиза, а также с их состоянием в растворах с различной протонодонорной активностью. Для получения информации о свойствах изучаемых гетероциклов проводили их полярографическое ис -следование.
В табл. 3.4. представлены значения потенциалов полуволн ( Еі/о) Для электрохимического восстановления некоторых заме -ценных оксипиримидинов в водных буферных растворах (рН = 1,68-8,8) ив небуферном растворе с рН=2,35 (подкисленный раствор 0,5 М A/c SOq). Из таблицы видно, что соединения Іа, 1в, 2, 4 и 5 способны восстанавливаться на ртутном капельном электро -де, причем значения их потенциалов полуволн близки к таковым разряда ионов цинка ( -1,08 В в растворе с рН=2,35). Это ука -зывает на то, что добавки могут расходоваться в условиях элект Соединения 2 и 4 не восстанавливаются в водных буферных растворах. Однако, в незабуферированном электролите с рН=2,35 в присутствии соединения 2 на подпрограмме наблюдается волна восстановления. Исследование этого процесса в более широкой области рН=0,б-5,0 (подкисленный 0,5 М раствор Л/с рОц) показало, что Еу« сдвигается в катодную область потенциалов с увеличе -нием рН электролита. Значение коэффициента АЕ //рН составляет 0,070 В. Величина предельного тока полярографической волны с ростом рН раствора (рН=0,6-4,0) убывает от 29 мкА до I мкА и исчезает при рН=5,0. Это указывает на каталитическую природупредельного тока [l05, с. 104]. Отсутствие такой волны в буферных растворах обусловлено сильным возрастанием ее высоты с увеличением буферной емкости раствора. Совокупность полученных результатов указывает на то, что в этом случае имеет место каталитическое выделение водорода, обусловленное способностью соединения 2 протонироваться в широкой области рН, что следует из величины константы основности. Согласно литературным данным для большинства исследуемых веществ константа основности(рКв) лежит в области значений 3,8-4-,2 [1O6-IO8].
Более детальное исследование влияния протонодонорной активности среды проведено для соединения 1а. Заметим, что при об -суждении полярографических результатов необходимо учесть спо -собность 2-оксипроизводных пиримидина к прототропной лактим -лактамной таутомерии [іОб, 109]. Однако, в водных буферных растворах таутомерное равновесие практически нацело сдвинуто в сторону образования лактамной формы [109].Установлено [по], что в водных буферных растворах с рН=1,0-8,8 наблюдается одна волна восстановления, предельный ток которой имеет диффузионную природу. %сло электронов определяли методом полярографической кулонометрии [ill] и для растворов с рН=3,2 и 7,3 установили, что оно составляет 0,80 и 0,87 , соответственно. В растворе с рН=9,18 происходит раздвоение полярографической волны, которое обусловлено восстановлением как протонированной (В), так и непротонированной (А) мо лекулы лактамной формы соединения Іа. В I М растворе гидрок -сида натрия соединение 1а не дает полярографической волны. Можно предположить, что в сильно щелочной среде оно находится в анионной форме (С), которая в этих условиях не является поляро-графически активной.
Полярографическое исследование соединения 1а проводили в ап-ротонной среде (ДМФА) в присутствии донора протонов - фенола (PhOH). Результаты приведены в табл. 3.5. Установили, что на полярограмме в диметилформамидном растворе имеются две необратимые волны. Путем сравнения высот волн соединения 1а с высо -тами одноэлектронных волн бензофенона установили, что высота первой волны исследуемого гетероцикла значительно ниже одно-электронного уровня. Относительное занижение первой волны(п= 0,6) может свидетельствовать в пользу предположения о том, что в ДМФА присутствуют две таутомерные формы соединения 1а-лак-тамная (А) и лактимная (Д), равновесные концентрации которых соизмеримы: