Электронная библиотека диссертаций и авторефератов России
dslib.net
Библиотека диссертаций
Навигация
Каталог диссертаций России
Англоязычные диссертации
Диссертации бесплатно
Предстоящие защиты
Рецензии на автореферат
Отчисления авторам
Мой кабинет
Заказы: забрать, оплатить
Мой личный счет
Мой профиль
Мой авторский профиль
Подписки на рассылки



расширенный поиск

Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Тюриков Александр Валерьевич

Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов
<
Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов
>

Диссертация - 480 руб., доставка 10 минут, круглосуточно, без выходных и праздников

Автореферат - бесплатно, доставка 10 минут, круглосуточно, без выходных и праздников

Тюриков Александр Валерьевич. Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов : Дис. ... канд. физ.-мат. наук : 05.11.14, 05.11.13 : Ижевск, 2004 174 c. РГБ ОД, 61:05-1/439

Содержание к диссертации

ПЕРЕЧЕНЬ ОСНОВНЫХ СОКРАЩЕНИЙ И ОБОЗНАЧЕНИЙ 5

ВВЕДЕНИЕ .. 6

ГЛАВА 1. ОБЗОР СОВРЕМЕННЫХ НАПРАВЛЕНИЙ
ИССЛЕДОВАНИЙ ПОВЕРХНОСТНЫХ ЯВЛЕНИЙ, СВЯЗАННЫХ С
УЛЬТРАДИСПЕРСНЫМИ ЧАСТИЦАМИ КЛАСТЕРНЫХ
МАТЕРИАЛОВ 12

  1. Краткий обзор истории, основных принципов и методик СКАНИРУЮЩЕЙ зондовой микроскопии 12

  2. Анализ строения и состава кластерных материалов 19

  3. Обзор методов моделирования поверхностных явлений 20

  4. Анализ существующих методик подготовки и моделирования стм-исследований 24

  5. Обзор методов создания зондирующих острий СТМ 31

1.6. Выводы И ПОСТАНОВКА ЗАДАЧИ 33

ГЛАВА 2. ПОСТРОЕНИЕ ТЕОРЕТИЧЕСКИХ СТМ-ИЗОБРАЖЕНИЙ УЛЬТРАДИСПЕРСНЫХ ЧАСТИЦ КЛАСТЕРНЫХ МАТЕРИАЛОВ... 34

  1. электрофизическая интерпретация параметров наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе ; 34

  2. основы методов расчета электронной структуры 37

  3. полуэмпирические методы вычислений плотности состояний и энергетических спектров 39

  4. Использование, первопришщпных методов расчета электронной структуры 48

  5. Первогошпхипные расчеты теоретических СТМ-ИЗОВРАЖЕНИЙ кластеров металлов, адсорбированных на поверхности гшролитического графита 55

  6. Анализ ошибок вычислений электронной структуры и теоретических стм-изображений 63

2.6.1. Точность метода Хартри-Фока..... 63

  1. Ошибка, определяемая использованием неполных базисных наборов . 68

  2. Погрешность, обусловленная видом начального предположения в методе Хартри-Фока 69

  3. Суммарная оценка ошибок расчета электронной структуры методом Хартри-Фока .....69

2.7. ВЫВОДЫ ПО ГЛАВЕ 2 72

ГЛАВА 3. МОДЕЛИРОВАНИЕ ОСТРИЯ И СОЗДАНИЕ МЕТОДИКИ
АТОМАРНОГО ЗАОСТРЕНИЯ ИЗМЕРИТЕЛЬНЫХ ИГЛ ДЛЯ
УЛУЧШЕНИЯ КАЧЕСТВА СТМ-ИЗОБРАЖЕНИЙ 75

  1. Факторы, влияющие на качество СТМ-изображений 75

  2. Сравнительной анализ моделей игл для теоретических CTM-исследований 76

  3. Формирование моноатомного острия измерительной иглы 78

  1. Модель системы для расчета электрического поля в процессе полевого испарения „ 83

  2. Адаптация конечно-разностной сетки к условиям задачи.... 85

  3. Дискретный аналог уравнений в частных производных для двухмерной задачи , 86

  4. Моделирование и расчет электростатического поля в межэлектродном пространстве 89

  1. Обзор вопросов применения эмиссионного тока для оценки качества атомарной заточки зондирующего острия 92

  2. Выводы по главе 3,. * 98

ГЛАВА 4. ПОСТРОЕНИЕ И ЧИСЛЕННЫЕ ИССЛЕДОВАНИЯ
ТУННЕЛЬНЫХ СПЕКТРОВ УЛЬТРАДИСПЕРСНЫХ ЧАСТИЦ
КЛАСТЕРНЫХ МАТЕРИАЛОВ 100

4.1, Анализ приближений для расчета туннельного тока 100

  1. Приближение Вентцеля-Крамерса-Бриллюэна 101

  2. Методика расчета туннельных спектров в приближении Бардина-Терсоффа-Хаманна 110

4.2. Численные исследования туннельных спектров
ультрадисперсных частиц кластерных материалов 113

4.3. Анализ ошибок расчета туннельных спектров,
обусловленных использованием теории БТХ - 120

4.3.1. Оценка адекватности модели БТХ 125

* 4.3.2. Оценка погрешности использования численных методов

интегрирования і 130

4.4. Выводы по главе 4 , 134

ГЛАВА 5. ПРОГРАММНО-АППАРАТУРНОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ДЛЯ
ПОСТРОЕНИЯ И ИНТЕРПРЕТАЦИИ ТЕОРЕТИЧЕСКИХ СТМ-
ИЗОБРАЖЕНИЙ. 135

5.1. Особенности аппаратурных средств СТМ для повышения
достоверности измерительной информации при изучении

щ ультрадисперсньгх частиц кластерных материалов 135

5.2. Программное обеспечение СТМ для изучения УДЧ КМ 138

5.3. Программные средства для работы с теоретическими СТМ-
изображениями 142

5.3.1. Подсистема построения и обработки теоретических СТМ-

изображеыий 142

5.3.2. Модуль совмещения теоретических СТМ-изображений 143

5.4 Сравнение теоретических изображений с экспериментальными
данными 152

5.5. Выводы по главе 5 , 156

* ЗАКЛЮЧЕНИЕ 157

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ 159

ПРИЛОЖЕНИЕ 172

*

ПЕРЕЧЕНЬ ОСНОВНЫХ СОКРАЩЕНИЙ И

ОБОЗНАЧЕНИЙ

СЗМ - сканирующая зондовая микроскопия

СТС - сканирующая туннельная спектроскопия

АСМ - атомно-силовая микроскопия

СТМ - сканирующий туннельный микроскоп '

ПИМ - полевой ионный микроскоп

РЭМ - растровый электронный микроскоп

ПБ - потенциальный барьер

КМ - кластерные материалы

ПР - пространственное разрешение-

АЭМ — автоэлектронный микроскоп

УДЧ - ультрадисперсные частицы

ВКБ-приближение - приближение Вентцеля-Крамерса-Бриллюэна

БТХ-приближение - приближение Бардина-Терсоффа-Хаманна

МО - молекулярная орбиталь

ЛЛПВ - линейная присоединенная плоская волна

ЛКАО - линейная комбинация атомных орбиталей

RHF - restricted Hartree-Fock - ограниченный метод Хартри-Фока

UHF- unrestricted Hartree-Fock - неограниченный метод Хартри-Фока

ПО — программное обеспечение

МИЛ - массово-инерционный привод сближения

ІШ - программный пакет

БПФ - быстрое преобразование Фурье

ПСВ - подсистема визуализации

ВАХ - вольтамперная характеристика

HOPG - highly oriented pyrolitic graphite (высоко ориентированный лироли-

тический графит)

ИИЛС - индуцированные иглой локализованные состояния

Введение к работе

Актуальность темы связана с необходимостью разработки электрофизических основ контроля изображений наноструктуры ультрадисперсньгх частиц (УДЧ) кластерных материалов (КМ) с использованием сканирующего туннельного микроскопа (СТМ).

Туннельный ток, измеряемый СТМ, является электрофизическим параметром, имеющим принципиально квантовый смысл. Ток электронов через потенциальный барьер между двумя проводниками обусловлен их волновой природой, а также разностью уровней Ферми двух электродов. Зондирующее острие (30) СТМ (б идеальном случае являющееся атомарно острым) сканирует поверхность с зазором -5-10 А; определяемым заданной величиной туннельного тока (топографический режим), или обеспечивает контроль зависимости тока от приложенного напряжения (спектроскопический режим). И в том, и в другом случае результат определяется электронно-атомным строением как исследуемой поверхности, так и ЗО СТМ. При известной электронной структуре 30 нанотопография образца определяется областью локализации электронных состояний поверхности, участвующих в электрофизическом процессе туннелирования. Зависимость туннельного тока от напряжения формируется электронными состояниями, подключающимися к туннелиро-ванию при изменении разности уровней Ферми. Эта информация является исключительно важной при производстве УДЧ КМ и изучении их геометрических, магнитных, каталитических и др. свойств. Кроме того, она может быть использована для контроля чистоты материалов, применяемых при производстве приборов и их элементной базы. Именно поэтому исследование электрофизических основ контроля изображений наноструктуры УДЧ КМ с использованием СТМ является актуальной задачей.

Объектом исследования является СТМ для исследования КМ, включающий ЗО измерительной головки для бесконтактного исследования наш-

7 структуры поверхности образцов и технические средства для выделения, обработки и визуализации измерительной информации.

Предметом исследования являются модели наноструктуры поверхности, методики получения и обработки СТМ-изображений, пакет квантово-химических расчетов GAMES S, программно-аппаратурное обеспечение

стм.

Целью работы является разработка и обоснование физико-математических, алгоритмических, программных и методических средств для построения теоретических и контроля экспериментальных изображений наноструктуры поверхности образцов, а также программно-аппаратурного обеспечения СТМ для изучения КМ, внедрение которых имеет существенное значение для создания новых перспективных кластерных материалов.

Для достижения поставленной цели необходимо решить следующие задачи:

- провести анализ существующих методов расчета электронной

структуры поверхности образцов и туннельного тока;

- разработать модель нанотопографии поверхности СТМ-образцов,
создать методику вычисления их туннельных спектров;

рассчитать СТМ-изображения и туннельные спектры для ряда наиболее используемых УДЧ КМ, определить погрешность расчетов;

предложить методику атомарного заострения ЗО для сближения результатов моделирования и экспериментальных данных;

разработать программно-аппаратурные средства, позволяющие на основе численных расчетов поверхностной электронной структуры и туннельных спектров УДЧ КМ, а также улучшения метрологических характеристик СТМ„ обеспечивать более достоверную интерпретацию результатов экспериментальных данных.

Методы исследования. В диссертации использован комплексный метод, включающий теоретические исследования и экспериментальную проверку полученных результатов. Работа выполнялась с применением математического и физического моделирования, в теоретических исследованиях ис-

8 пользовались: методы расчета атомно-электронной структуры поверхности, численные методы, теоретические основы информатики и программирования, методы обработки графической информации. В экспериментальных исследованиях применялись: теория измерения электрических и механических величин, статистические методы обработки результатов исследований, теория точности измерительных систем.

Научная новизна работы состоит в следующих результатах:

- выполнены обоснование, анализ и выбор расчетной физико-
математической модели для электронной структуры поверхности и тока тун
нельных переходов;

проведены численные электрофизические исследования туннельных токов системы измерительная игла - подложка;

впервые получен ряд теоретических СТМ-изображений для контроля экспериментальных изображений наноструктуры поверхности УДЧ, наиболее часто используемых в областях каталитической химии, физикохимии ультрадисперсных систем, материаловедения, а также применяемых при производстве приборов и их элементной базы;

дан анализ погрешностей численных исследований ультрадисперсных частиц;

впервые обоснован способ атомного заострения ЗО СТМ (in situ) с помощью процесса полевого испарения для улучшения экспериментальных СТМ-изображений;

предложена методика контроля заострения 30 туннельного микроскопа в процессе полевого испарения путем контроля зависимости эмиссионного тока от радиуса кривизны острия;

разработаны алгоритмы совмещения теоретических и экспериментальных СТМ-изображений с использованием метода наименьших квадратов;

создан программно-методический комплекс для построения и визуализации теоретических СТМ-изображений в программном пакете STM-W3.

Апробация и публикации. Основные результаты работы докладывались и обсуждались на 5-й Российской университетско-академической научно-практической конференции (Ижевск, 2001), международной научно-технической конференции, посвященной 50-лётшо ИжГТУ (Ижевск, 2002), научно-технической конференции «Приборостроение в XXI веке. Интеграция науки, образования и производства» (Ижевск, 2003), международной конференции «Синергетические системы» (Улан-Удэ, 2002), двух международных конференциях «Зондовая микроскопия-2003,2004» (Нижний Новгород).

Основной материал диссертации отражен в18 научных трудах, включая два патента на изобретения, а также патент и положительное решение о выдаче патента на полезные модели.

Структура и объем работы. Диссертация состоит из введения, пяти глав, заключения, списка литературы из 173, наименований и приложения. Работа содержит 173 стр. машинописного текста, включая 65 рис., 4 табл. и приложение.

В первой главе представлен обзор современного состояния вопросов моделирования СТМ-эксперимента представленный работами Дж. Терсоффа, Д.Р. Хаммана, P.P. Шармы, Н.Д. Ланга, С. Сирачи, И.П. Батры, М.С. Хайки-на, B.C. Эдельмана, В.И. Панова, А.О. Голубка, В.А.Быкова, В.К.Неволина, Г.Г. Владимирова, СВ. Гапонова, И.В. Яминского, И.А. Дорофеева и др. Дан анализ способов атомарного заострения ЗО СТМ, рассмотрены методики химического и электрохимического травления, предшествующие полевому испарению и ионной бомбардировке; представлены методы расчета поверхностных волновых функций и электронно-атомной структуры поверхностей; поставлены задачи исследований.

Во второй главе рассмотрены методы расчета поверхностных волновых функций и электронной структуры поверхности. Показано, что при наличии необходимых эмпирических параметров УДЧ КМ наиболее целесообразно использовать полуэмпирические методы расчета, а в случае их отсутствия - неэмпирические (ab initio) методы (позволяющие рассчитать элек-

10 тронную структуру поверхности, исходя из первых принципов квантовой механики). Разработан алгоритм расчета туннельного тока на основе вычисленной электронной структуры поверхности ЗО и УДЧ КМ.

Получен ряд теоретических СТМ-изображений моноатомных УДЧ на поверхности высоко ориентированного пиролитического графита (HOPG).

В третьей главе приведены методы заострения ЗО СТМ для сближе- ния результатов моделирования и экспериментальных данных. Форма «кончика» острия иглы сильно влияет на процессы формирования туннельного тока. Известно, что пространственное разрешение в СТМ-эксперименте определяется атомарными микровыступами кончика 30. Рассмотрено применение явления полевого испарения для заострения микровыступов. Проведено численное моделирование атомарного заострения и показано,-что величины электрического поля в местах наибольшей локальной кривизны достаточно для инициирования процесса полевого испарения. Разработана методика контроля полевого заострения 30, имеющая в основе классическую теорию - расчетов эмиссионного тока. На основе анализа моделей ЗО в теоретическом эксперименте, проведено моделирование 30 для целей теоретических расчетов туннельных спектров.

В четвертой главе дан анализ методов расчета туннельного тока между ЗО СТМ и подложкой. Рассмотрены квазиклассическая модель Вентцеля-Крамерса-Бриллюэна (ВКБ) и квантовый метод Бардина-Терсоффа-Хаманна (БТХ). Получены выражения для туннельных матричных элементов в теории БТХ, рассчитан ряд спектров туннельной проводимости УДЧ КМ на поверхности HOPG.

Пятая глава посвящена вопросам создания гфограммно-аппаратурных средств СТМ. Разработаны конструкции СТМ для изучения УДЧ КМ, а также устройства для предварительного формирования 30 СТМ (методами электрохимического и химического травления) и пьезодвигателя микроперемещений. Разработан программный пакет STM-W3 для формирования, обработки и визуализации как экспериментальных, так и теоретических СТМ-

*

изображений. Рассмотрены вопросы оценки погрешности расчетов теоретических СТМ-изображений.

Основные научные и практические результаты работы сформулированы в выводах по главам и заключении.

Работа выполнена в Институте Прикладной Механики УрО РАН, г.Ижевск.

Автор считает своим долгом выразить глубокую благодарность науч- . ному руководителю академику РАН Папанову A.M. за большую моральную поддержку, содействие в работе и критические замечания, а также научному консультанту к.т.н. Шелковникову Е.Ю. за полезные дискуссии и ряд ценных советов. Автор искренне признателен доценту к.ф-м.н. Митрохину Ю.С.и коллегам по работе, принявшем участие в обсуждении работы и оказавшим помощь во внедрении результатов исследований.

Похожие диссертации на Электрофизические основы контроля изображений наноструктуры поверхности в сканирующем туннельном микроскопе для изучения кластерных материалов