Электронная библиотека диссертаций и авторефератов России
dslib.net
Библиотека диссертаций
Навигация
Каталог диссертаций России
Англоязычные диссертации
Диссертации бесплатно
Предстоящие защиты
Рецензии на автореферат
Отчисления авторам
Мой кабинет
Заказы: забрать, оплатить
Мой личный счет
Мой профиль
Мой авторский профиль
Подписки на рассылки



расширенный поиск

Влияние условий роста в методе молекулярно-пучковой эпитаксии на формирование границ раздела соединений A3 B5 Филаретов, Алексей Галиевич

Данная диссертационная работа должна поступить в библиотеки в ближайшее время
Уведомить о поступлении

Диссертация, - 480 руб., доставка 1-3 часа, с 10-19 (Московское время), кроме воскресенья

Автореферат - бесплатно, доставка 10 минут, круглосуточно, без выходных и праздников

Филаретов, Алексей Галиевич. Влияние условий роста в методе молекулярно-пучковой эпитаксии на формирование границ раздела соединений A3 B5 : автореферат дис. ... кандидата физико-математических наук : 01.04.01 / Рос. АН Ин-т аналитического приборостроения.- Санкт-Петербург, 1994.- 18 с.: ил. РГБ ОД, 9 95-1/745-8

Введение к работе

Актуальность темы диссертации определяется широким развитизм разработок и производства полупроводниковых приборов, действие которых основано на квантоворазмерных эффектах,-в том числе весьма интенсивными работами по поиску технологии создания приборов на квантовых проволоках. При этом характеристики таких приборов существенно зависят от свойств как границ раздела гетероструктур, так и границы кристалл-вакуум, находящихся в многопаратетрической зависимости от технологических параметров выращивания кристалла и его послеростовой обработки, поэтому экспериментальной путь определения влияния условий роста на формирование границ раздела при выращивании полупроводников из молекулярных пучков весьма дорог и методически слоган. '

Таким образом, создание физико-математической модели выращивания полупроводниковых кристаллов ^ из молекулярных пучков димеров анионов и атомарного потока катионов, допускающей воз?,юз-ность исследования влияния технологически значащих параметров, а также возможность вклкнения и выключения отдельных кинетических процессов роста, на процесс формирования границ раздела, является актуальным.

Цель работы состоит в построении компьютерной Монте-Карло модели выращивания полупроводниковых кристаллов А^У* из молекулярных пучков димеров анионов и атомарного потока катионов, применимой для оптимизации технологического процесса выращивания кристаллов арсенида галлия, и исследовании с помощью созданной модели влияния на формирование граница раздела кристалл-вакуум условий роста, и угла разориентацяи грани от. направления [001 ].

Научная новизна работы состоит в еле душем:

I. Создана оригинальная модель выращивания полупроводниковых кристаллов іґЕ3 на грани (001) из молекулярных пучков димеров анионов и атомарного потока катионов, в которой:

- впервые процессы "Миграции дймера аниона в физически адсорбированном состоянии и конфигурационно-зависимой диссоциативной хемосорбции дймера аниона рассмотрены как термоактивированный процессы. Тем самым сделан первый шаг к учету реальных химических реакций на поверхности растущего кристалла;

- впервые процесс миграции атомов в хемосорбированном состоянии рассмотрен как анизотропный по кристаллографическим на-

правлениям процесс;

впервые все константа кинетических процессов для случая выращивания арсенида галлия экспериментально обоснованы;

впервые на каждом шаге рассмотрения кинетических процессов определяетсяполная группа возможных событий, и лишь затем рассматривается вероятность каждого из них определяется, какой именно процесс реализуется.

  1. Впервые проведено сопоставление параметров, получаемых при моделировании реальных условий роста, с экспериментально наблвдаемыми при этих же условиях роста характеристиками.

  2. Впервые с помощью созданной модели иссследована динамика развития рельефа растущего кристалла GaAs в зависимости от угле угла разориентации грани от направления [001].

Практическая значимость работы состоит в следующем:

в применимости созданной компьютерной Монте-Карло модели выращивания полупроводниковых кристаллов 1сг из молекулярных пучков димеров анионов и атомарного потока катионов как средства оптимизации технологического процесса выращивания кристаллов при изменении одного или нескольких технологически значащих параметров;

в исследовании с помощьв созданной модели роли отдельных кинетических процессов и их влияния на процесс молекулярно-пучковой зпитаксии в целом;

в исследовании совместного влияния угла разориентации грани 1001] в сторону И10] и условий роста на динамику развития рельефа поверхности растущего кристалла и его электрофизические свойства.

Апробация работы. Основные результаты диссертационной работы докладывались на: семинарах лаборатории по исследования поверхности твердых тел и технологий микроэлектроники НАД РАН, на семинарах и научно-технических советах отдела технологий функциональной электроники АО "Авангард", на семинаре Interdisciplinary Research Centre tor Semiconductor Materials, University or London, а также на конференциях: VIII General Conference of the European Physical Society, Amsterdam, the Netherland. September, 1990; 2nd International Conference on Computational Physics,-Amsterdam, the Netherland, September, 1990; 13th General Conference or the Condensed Matter Division- of the European Physical Society, Regens-

burg, tbe Federal Republic of Gentany, Karen, 1993. По теме диссертация опубликовано 14 работ. Положения, выносимые на защиту:

  1. Компьютерная Иовте-Карло мэдаль выращивания бинарных полупроводников ?їг та молекулярных пучков динаров анионов и атомарного потока металлов. На примере арсеняда галлия сравнением моделируемых параметров и экспериментально регистрируемых характеристик показана адекватность отображения модельв реального про-цесеса МПЭ-роста на грани (001).

  2. Существование процесса миграции физически адсорбированной молекулы &sz в общем процессе ЫПЭ^-роста GaAs.

  3. Существование процесса миграции химически адсорбированного атома аниона в общем процессе ШЭ-роста соединений 4^.

  4. Существование фазового сдвига осцилляции интенсивности участков дифракционного рефлекса, сформированных, с разной сте-пеньв влияния взаимодействия первичных электронов со ступенями катионов и анионов на границе раздела кристалл-вакуум.

  5. Результаты оптимизаций процесса роста при исследовании совместного влияния условий роста и угла разоркентации грани от направления 1001] на динамику развития рельефа поверхности растущего кристалла и его злекрофязические свойства.

Объем и структура диссертации, диссертация состоит из введения, пяти глав, заклотения и списка литературы. Работа содержит 134 страниц, вклшая 88 страниц текста, 30 рисунков и список литературы из 104 наименований.

Похожие диссертации на Влияние условий роста в методе молекулярно-пучковой эпитаксии на формирование границ раздела соединений A3 B5