Электронная библиотека диссертаций и авторефератов России
dslib.net
Библиотека диссертаций
Навигация
Каталог диссертаций России
Англоязычные диссертации
Диссертации бесплатно
Предстоящие защиты
Рецензии на автореферат
Отчисления авторам
Мой кабинет
Заказы: забрать, оплатить
Мой личный счет
Мой профиль
Мой авторский профиль
Подписки на рассылки



расширенный поиск

Разработка и исследование технологических основ формирования наноструктур на основе арсенида галлия методом молекулярно-лучевой эпитаксии для элементов микро- и наноэлектроники Солодовник, Максим Сергеевич

Диссертация, - 480 руб., доставка 1-3 часа, с 10-19 (Московское время), кроме воскресенья

Автореферат - бесплатно, доставка 10 минут, круглосуточно, без выходных и праздников

Солодовник, Максим Сергеевич. Разработка и исследование технологических основ формирования наноструктур на основе арсенида галлия методом молекулярно-лучевой эпитаксии для элементов микро- и наноэлектроники : диссертация ... кандидата технических наук : 05.27.01 / Солодовник Максим Сергеевич; [Место защиты: Юж. федер. ун-т].- Таганрог, 2013.- 163 с.: ил. РГБ ОД, 61 14-5/152

Введение к работе

Актуальность диссертационной работы

Арсенид галлия совместно с другими арсенидами металлов III группы широко используется в современной электронике, занимая доминирующее положение в ряде областей благодаря особенностям кристаллической и энергетической структуры. Формирование на их основе полупроводниковых наноструктур (ППНС), обладающих уникальными структурными, оптическими, электрофизическими и транспортными характеристикам, обусловленными размерными эффектами, открывает широкие перспективы для улучшения характеристик существующих устройств микро- и наноэлектроники и созданию приборов на новых эффектах. Особенно большое внимание в связи с этим уделяется самоорганизующимся наноструктурам - нитевидным нанокристаллам (ННК) и квантовым точкам (КТ).

На существующем этапе развития приборостроения и полупроводниковой технологии актуальной задачей является управляемый синтез ННК и КТ, позволяющий формировать регулярные массивы ППНС с требуемыми параметрами. Актуальность использования комбинации методов молекулярно-лучевой эпитаксии (МЛЭ) и атомно-силовой микроскопии (АСМ) для разработки технологических процессов формирования массивов ННК и КТ с заданными характеристиками обусловлена наличием in-situ контроля и широким набором ростовых методик в методе МЛЭ, в том числе, основанных на эффектах самоорганизации, и прецизионного контроля параметров и позиционирования наноструктур, присущих методу АСМ. Для разработки технологии управляемого формирования ННК и КТ необходимо проведение дополнительных исследований процессов автокаталитического роста ННК и режимов АСМ-обработки поверхности GaAs методом локального анодного окисления (ЛАО).

Цели и задачи диссертационной работы

Целью диссертационной работы является разработка и исследование технологических основ формирования методом МЛЭ массивов самоорганизующихся наноструктур (ННК и КТ) на основе GaAs с использованием собственного оксида для активных элементов устройств микро-и наноэлектроники.

Для достижения данной цели необходимо решить следующие задачи:

  1. Обобщение и выявление основных требований к характеристикам и методам получения массивов ННК и КТ на основе GaAs для применения в приборах микро- и наноэлектроники.

  2. Теоретические исследования термодинамических закономерностей межфазного взаимодействия в системах Ga-As-O, Ga-As-H20 и Ga-As-ZnO при формировании наноструктур на основе GaAs.

  3. Теоретические исследования процессов формирования ННК GaAs методом МЛЭ по автокаталитическому механизму.

  4. Экспериментальные исследования режимов начальной стадии формирования ННК GaAs по автокаталитическому механизму с использованием собственного оксида.

  1. Экспериментальные исследования режимов наноразмерного профилирования поверхности подложек GaAs методом ЛАО.

  2. Разработка методик исследования параметров наноструктур GaAs на основе метода АСМ.

  3. Разработка конструкции и технологического маршрута изготовления элемента оперативного запоминающего устройства с упорядоченными массивами КТ в системе (In,Ga)As/(Al,In,Ga)As с использованием нанотехнологического комплекса НАНОФАБ НТК-9.

  4. Разработка конструкции и технологического маршрута изготовления чувствительного элемента газового сенсора на основе массивов ННК GaAs с использованием нанотехнологического комплекса НАНОФАБ НТК-9.

Научная новизна:

  1. Установлены термодинамические закономерности процессов межфазного взаимодействия в системах Ga-As-O, Ga-As-H20 и Ga-As-ZnO с учетом нелинейных температурных зависимостей теплофизических свойств соединений и режимов МЛЭ GaAs, на основе которых разработана методика выбора материала подслоя для формирования массивов ННК GaAs по автокаталитическому механизму.

  2. Экспериментально установлены закономерности начальной стадии формирования автокаталитических ННК GaAs с использованием инициирующих слоев оксида GaAs и ZnO.

  3. Разработана математическая модель формирования ННК GaAs по автокаталитическому механизму с учетом давления и молекулярной формы мышьяка.

  4. Установлены закономерности влияния режимов наноразмерного профилирования методом ЛАО на морфологию поверхности GaAs с учетом амплитуды и длительности импульса напряжения, параметра Set Point и влажности рабочей атмосферы.

Практическая значимость работы:

  1. Определены режимы формирования ННК GaAs по авто каталитическому механизму с использованием собственного оксида GaAs и наноразмерных пленок ZnO. Показано, что при температуре 580С, скорости роста 1 МС/с и давлении мышьяка 4-Ю"5 Па на собственном оксиде формируются автокаталитические ННК GaAs плотностью 5-Ю8 см"2, длиной 1-6 мкм и диаметром 60-200 нм, а на слое ZnO толщиной 3 нм - ННК GaAs плотностью 1,2-107 см"2, длиной 0,5-1 мкм и диаметром 250-500 нм.

  2. Разработана методика наноразмерного профилирования поверхности GaAs на основе метода ЛАО. Показано, что при длительности импульса подаваемого напряжения менее 100 мс и влажности 60% возможно получения регулярных массивов оксидных наноразмерных структур (ОНС) GaAs диаметром до 50 нм и высотой 2 нм, а при влажности 90% - углублений на поверхности GaAs глубиной до 8 нм и диаметром 100 нм.

  3. Разработаны методики определения механических и электрических параметров ННК GaAs методом АСМ. Показано, что при изменении аспектного соотношения ННК GaAs от 10 до 26 их модуль Юнга изменяется от 33 до 143

ГПа, а с увеличением длины ННК с 2 до 6 мкм - от 40 до 140 ГПа. Также показано, что полученные ННК GaAs имеют р-тип проводимости с удельным сопротивлением 2 кОмсм.

  1. Разработаны конструкция элемента оперативного запоминающего устройства с упорядоченными массивами КТ (In,Ga)As/(Al,In,Ga)As, позволяющего, согласно оценкам, осуществлять многоуровневую запись информации, сократив число транзисторов в ячейке памяти с 6 до 2, и технологический маршрут его изготовления на основе использования нанотехнологического комплекса НАНОФАБ НТК-9.

  2. Предложены конструкция интегрированного газового сенсора с чувствительным элементом на основе массивов ННК GaAs, позволяющего, согласно оценкам, осуществлять дегазацию чувствительного элемента на основе эффекта саморазогрева, и технологический маршрут его изготовления на основе использования нанотехнологического комплекса НАНОФАБ НТК-9.

Положения, выносимые на защиту:

  1. Термодинамические закономерности процессов межфазного взаимодействия в системах Ga-As-O, Ga-As-H20, Ga-As-ZnO с учетом нелинейных температурных зависимостей теплофизических свойств соединений и их корреляция с режимами МЛЭ и Л АО.

  2. Математическая модель формирования ННК GaAs по автокаталитическому механизму методом МЛЭ с учетом давления и молекулярной формы мышьяка, которая позволяет учесть влияние летучей компоненты бинарных соединений на геометрические параметры наноструктур.

3. Закономерности влияния режимов наноразмерного профилирования
методом ЛАО на морфологию поверхности GaAs с учетом амплитуды и
длительности импульса напряжения, параметра Set Point и влажности.

Реализация результатов работы:

Диссертационная работа выполнялась в соответствии с планом госбюджетных
научно-исследовательских работ кафедры ТМ и НА и НОЦ «Нанотехнологии»
ЮФУ в 2009-2012 гг.: «Исследование и разработка технологических процедур
для производства элементов изделий микро- и наноэлектроннои техники на
основе использования сверхвысоковакуумной технологической

автоматизированной платформы кластерного типа» в рамках ФЦП «Научные и научно-педагогические кадры инновационной России на 2009-2013 годы» (внутр. №13315); «Проведение поисковых научно-исследовательских работ в области микро- и наноструктур на основе оксидных, органических и биологических материалов, разработка технологии их получения для развития перспективной сенсорики, основанной на новых физических принципах в центре коллективного пользования научным оборудованием «Высокие технологии»» в рамках ФЦП «Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2007-2012 годы» (внутр. №13013).

Результаты диссертационной работы внедрены на промышленном предприятии ЗАО «НТ-МДТ» (г. Зеленоград), а также в учебный процесс на кафедре ТМ и НА ЮФУ.

Апробация работы:

Основные научные результаты диссертационной работы докладывались и обсуждались на различных международных и всероссийских конференциях и семинарах: The 5th Forum NANO AND GIGA CHALLENGES in Electronics, Photonics and Renewable Energy (Moscow - Zelenograd, 2011); Ежегодная научная конференция студентов и аспирантов базовых кафедр ЮНЦ РАН (г. Ростов-на-Дону, 2011, 2012); Третья Всероссийская школа-семинар студентов, аспирантов и молодых ученых по направлению «Наноинженерия», «Наноинженерия-2010» (г. Калуга, 2010); Международная научно-техническая конференция «Нанотехнологии» (пос. Дивноморское, 2010, 2012); Конференция аспирантов и молодых ученых «Неделя науки» (г. Таганрог, 2008, 2009); Симпозиум «Нанотехнологии» (г. Таганрог, 2009); Всероссийская научная конференция студентов и аспирантов «Техническая кибернетика, радиоэлектроника и системы управления» (г. Таганрог, 2010); 56-ая научно-техническая конференция ТТИ ЮФУ (Таганрог, 2010); 14-я научная молодежная школа «Физика и технология микро- и наносистем ЛЭТИ-2011» (г. С.-Петербург, 2011); Russian - Taiwanese Symposium «Physics and Mechanics of New Materials and Their Applications» (Rostov-on-Don, 2012); XV Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника» (г. Нижний Новгород, 2011).

Результаты работы отмечены дипломами ряда конференций и конкурсов научных работ: конференции Южного научного центра РАН (г. Ростов-на-Дону, 2010), X Всероссийской научной конференции студентов и аспирантов «Техническая кибернетика, радиоэлектроника и системы управления» (г. Таганрог, 2010). Является лауреатом конкурса молодых ученых имени академика И.И. Воровича «Фундаментальные и прикладные проблемы современной техники» (г. Ростов-на-Дону, 2010), победителем молодежного научно-инновационного конкурса «У.М.Н.И.К.» (2010-2012).

Публикации:

По теме диссертации опубликовано 19 печатных работ, из них 6 статей в журналах, входящих в Перечень ВАК. Получен патент РФ на изобретение №110866 (приоритет от 07.07.2011 г.)

Структура и объем диссертации:

Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения, списка используемой литературы, приложения. Объем работы составляет 163 страницы, включая 77 рисунков, 2 таблицы и 180 наименований списка использованной литературы.

Похожие диссертации на Разработка и исследование технологических основ формирования наноструктур на основе арсенида галлия методом молекулярно-лучевой эпитаксии для элементов микро- и наноэлектроники