Электронная библиотека диссертаций и авторефератов России
dslib.net
Библиотека диссертаций
Навигация
Каталог диссертаций России
Англоязычные диссертации
Диссертации бесплатно
Предстоящие защиты
Рецензии на автореферат
Отчисления авторам
Мой кабинет
Заказы: забрать, оплатить
Мой личный счет
Мой профиль
Мой авторский профиль
Подписки на рассылки



расширенный поиск

Исследование влияния режимов генерации ВЧИ разряда на равновесную температуру плазмы Данилова, Ольга Тимофеевна

Данная диссертационная работа должна поступить в библиотеки в ближайшее время
Уведомить о поступлении

Диссертация, - 480 руб., доставка 1-3 часа, с 10-19 (Московское время), кроме воскресенья

Автореферат - бесплатно, доставка 10 минут, круглосуточно, без выходных и праздников

Данилова, Ольга Тимофеевна. Исследование влияния режимов генерации ВЧИ разряда на равновесную температуру плазмы : автореферат дис. ... кандидата физико-математических наук : 01.04.08 / Омский ун-т.- Омск, 1995.- 18 с.: ил. РГБ ОД, 9 96-2/1358-7

Введение к работе

Актуальность темы. Широкое применение плазмохимических процессов в химической, металлургической, электронной и других отраслях промышленности требует разработки новых технологий, обладающих высокой эффективностью, экологически чистых, использующих доступное и дешевое сырье.

Для реализации крупнотоннажных технологических процессов в основном используются дуговые, высокочастотные и СВЧ плазмотроны, т.е. источники равновесной или близкой к равновесию плазмы. Среди этих источников высокочастотный индукционный (ВЧИ) разряд выгодно отличается чистотой получаемой плазмы, значительной объемностью разряда, большим ресурсом работы плазмотрона. Однако, температура равновесной плазмы при давлениях, близких к атмосферному, легат в пределах 6000 - 10000 К и практически не поддается регулированию. Такие высокие температуры не нужны для целей плазмохимии, так как большинство процессов плазмохимической технологии эффективно протекают при более низких температурах (порядка 2500 - 4000 К). Плазменные же температуры перегревают реагирующую смесь и большая часть энергии затрачивается на процессы диссоциации и ионизации, а повышенные градиенты температур увеличивают непроизводительное рассеивание энергии, снижая тем самым общую эффективность процесса.

В,связи с этим, любые исследования способов управления температурой равновесной плазмы, в особенности с целью ее понижения, являются актуальными, что определяет необходимость проведения таких исследований для оптимизации режимов генерации ВЧИ разряда.

Цель работы заключалась в исследовании методами численного моделирования возможных способов управления температурой плазмы ВЧИ разряда, экспериментальной проверке полученных результатов и разработке способов практического применения ВЧИ плазмы в технологии получения ультрадисперсных материалов.

Для достижения этой цели в работе были поставлены следующие основные задачи:

  1. Разработка алгоритма расчета температуры ВЧИ разряда с использованием модели металлического цилиндра, которая заключается в уподоблении плазменного столба металлическому цилиндру с постоянной электропроводостью о и радиусом г0.

  2. Исследование зависимости характеристик ВЧИ разряда от параметров высокочастотного генератора, плазмотрона и плазмообразущего газа.

3. Экспериментальные исследования различных рэкимов
генераций ВЧИ плазмы и протекающих в ней шзазмохммичэских
процессов.

4. Разработка методик измерения характеристик получаемых в
плазме ультрадисперсых порошков (УДП).

3. Научная новизна результатов.

В диссертационной работе впервые разработана расчетная модель ВЧИ разряда, включающая как частные случаи модель металлического цилиндра для скинированного разряда и модель контрагированного разряда для нескинированного разряда.

Методами численного моделирования получена новая информация о свойствах ВЧИ разряда, позволившая сформулировать требования к режиму генерации нескинированного разряда, обладающего относительно низкой равновесной температурой.

Расчиганы электрические и геометрические параметры плазмотрона, индуктора и ВЧ генератора необходимые для генерации нескинированного разряда.

Получен низкотемпературный нескинированный разряд в конграгированной форме.

Разработан и реализован технологический процесс получения УДП оксидов металлов из отходов промышленного производства.

Разработаны методики определения электрофизических и магнитных характеристик получаемых УДП.

Практическая значимость работы.

Результаты проведенных исследований могут использоваться для реализации технологических процессов в ВЧИ разрядах атмосферного давления.

Технологические процессы получения УДП могут применяться на* предприятиях лакокрасочных производств, а результаты исследований по способам получения и свойствам

- 5 -магнитопроницаемых пигментов - для разработки технологии производства ксерокопировальных горошков.

На защиту выносятся следующие положения:

1. Теоретическая модель ВЧИ разряда, объединяющая в одном
алгоритме как скицированную, так и нескинированную формы
разряда.

2. Результаты численного моделирования параметров ВЧИ
разряда, определяющие условия генерации нескинированной формы
разряда.

  1. Методики и результаты расчета ВЧ генератора и ВЧИ плазмотрона, позволяющие согласовать генератор с индуктором плазмотрона.

  2. Технология получения УДП оксидов металлов из отходов промышленных производств.

5. Методики определения электрофизических и магнитных
характеристик получаемых в плазме дисперсных материалов.

Апробация работы.

Основные результаты диссертационной работы докладывались и обсуждались на Российской конференции "Получение, свойства и применение энергонасыщенных ульградисперсных порошков металлов и их соединений" (г. Томск, 1993 г.); на международном симпозиуме по адсорбции и жидкостной хроматографии макромолекул (г. Омск, 1994 г.).

Структура и объем диссертации. Диссертация состоит из введения, четырех глав и заключения. Объем диссертации - 156 страниц машинописного текста, в том числе 37 рисунков, 17 таблиц и список цитируемой литературы из 240 наименований.

Похожие диссертации на Исследование влияния режимов генерации ВЧИ разряда на равновесную температуру плазмы