Электронная библиотека диссертаций и авторефератов России
dslib.net
Библиотека диссертаций
Навигация
Каталог диссертаций России
Англоязычные диссертации
Диссертации бесплатно
Предстоящие защиты
Рецензии на автореферат
Отчисления авторам
Мой кабинет
Заказы: забрать, оплатить
Мой личный счет
Мой профиль
Мой авторский профиль
Подписки на рассылки



расширенный поиск

Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров Коновалов Михаил Павлович

Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров
<
Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров
>

Диссертация, - 480 руб., доставка 1-3 часа, с 10-19 (Московское время), кроме воскресенья

Автореферат - бесплатно, доставка 10 минут, круглосуточно, без выходных и праздников

Коновалов Михаил Павлович. Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров : Дис. ... канд. техн. наук : 05.27.01 Москва, 2005 154 с. РГБ ОД, 61:06-5/200

Введение к работе

Актуальность темы

Прогресс большинства областей современной техники неразрывно связан с успехами силовой электроники. Основными активными элементами силовой электроники являются мощные полупроводниковые приборы, работающие в ключевом режиме и применяющиеся в различных видах преобразовательной техники: диоды, тиристоры, биполярные и МДП транзисторы, биполярные транзисторы с изолированным затвором (БТИЗ или IGBT).

Требования разработчиков силовой преобразовательной техники к параметрам используемых в схемах дискретных полупроводниковых приборов систематически возрастают, особенно - в части повышения импульсно-частотных характеристик, снижения рассеиваемой мощности (статической и динамической), повышения электропрочности и надежности. Решение этих проблем обеспечивается постоянным совершенствованием качества исходных подложек, конструкций и технологий, разработкой новых типов приборов, использованием процессов легирования подложек "глубокими" примесями (золото, платина) для повышения импульсно-частотных параметров.

Радиационный технологический процесс (РТП), состоящий из последовательных операций облучения высокоэнергетичными электронами и термического отжига, в последние годы находит все более широкое и в основном безальтернативное практическое применение в технологии различных изделий полупроводниковой электроники с целью обеспечения импульсно-частотных характеристик и регулирования статических параметров. Однако, этот процесс, основанный на введении в активные области приборов высокостабильных "глубоких" радиационных центров (РЦ), применительно для силовых приборов находится в стадии исследования и развития. В связи с этим, актуальной представляется задача исследования изменения электрических параметров силовых

РОС. НАЦИОНАЛЬНАЯ і БИБЛИОТЕКА (

- -1 і 11 і 11 т чт

ч I

полупроводниковых приборов (СПП) в широком диапазоне режимов операций

облучения и последующего термического отжига.

Цель диссертационной работы

Разработать режимы и условия проведения операций радиационного технологического процесса для их использования в производстве с целью получения силовых полупроводниковых приборов с улучшенным комплексом им-пульсно-частотных и статических параметров и повышенной радиационной стойкостью.

Для достижения поставленной цели в работе необходимо было решить
следующие задачи: j

  1. установить закономерности изменения основных электрических параметров и характеристик исследуемых силовых диодных, транзисторных структур и структур биполярных транзисторов с изолированным затвором в зависимости от режимов и условий операций облучения и отжига радиационного технологического процесса;

  2. исследовать кинетику накопления и отжига глубоких радиационных центров, вводимых в активные области силовых приборных структур в процессе проведения операций облучения высокоэнергетичными электронами и отжига РТП;

  3. осуществить выбор режимов проведения операций радиационного технологического процесса для получения силовых приборных структур с оптимальным сочетанием импульсно-частотных и статических параметров в соответствии с требованиями заказчика.

Работа проводилась в лабораториях кафедры Полупроводниковой электроники и физики полупроводников МИСиС в соответствии с планом хоздоговорных работ МИСиС с ЗАО "ФЗМТ", ЗАО "ЭПЛ", ГУП "ВЭИ им. В.И. Ленина" и работ по Единому заказ-наряду Минобразования РФ.

5 Новизна и научная ценность

Установлены закономерности влияния операций облучения быстрыми электронами и термического отжига в широких диапазонах интегральных потоков электронов и температур на импульсно-частотные и статические параметры основных типов кремниевых силовых приборов: диодов, биполярных транзисторов, биполярных транзисторов с изолированным затвором.

Изучение кинетики термического отжига РЦ в базовых областях кремниевых р-n диодных структур позволило установить, что значительное уменьшение концентрации РЦ в кремнии происходит при температурах превышающих 400 С. Показано, что при этих температурах образуются сложные вторичные РЦ с участием дивакансий и остаточного кислорода, которые обладают более высокой термостабильностью и обеспечивают высокий темп рекомбинации за счет их глубокого энергетического положения в запрещенной зоне.

Установлено, что при применении РТП в технологии силовых приборов рост статических параметров и, соответственно, статических потерь мощности не являются критическими, так как при работе приборов на высоких частотах коммутации определяющими в общих потерях рассеиваемой мощности являются динамические потери мощности. Применение РТП приводит к снижению динамических потерь мощности в десятки раз в то время как статические потери растут в 2-3 раза. В результате проведения операций РТП снижается величина суммарных потерь мощности и обеспечивается более "комфортабельный" тепловой режим приборов в условиях эксплуатации.

Практическая ценность работы

Полученные в работе результаты используются на опытных заводах ГУЛ "ВЭИ им. В.И. Ленина", ЗАО "ЭПЛ", ЗАО "ФЗМТ" при производстве кремниевых силовых диодов ("ДЧ143"), мощных биполярных транзисторов ("КТД8252"), транзисторов с изолированным затвором ("2Е701", "Экскаватор").

Использование разработанных режимов операций РТП позволяет достичь наилучшего сочетания динамических и статических параметров силовых приборов по сравнению с приборами, изготовленными по стандартной (маршрутной) технологии:

улучшить время восстановления обратного сопротивления диодных структур "ДЧ143" в 6-7 раз, уменьшить в 1,9 раза значение рассеиваемой мощности, повысить радиационную стойкость к гамма-импульсу в 2,4 раза;

улучшить импульсно-частотные параметры транзисторов "КТД8252" в 8-10 раз, ослабить зависимость коэффициента передачи от уровня инжекции в рабочем диапазоне токов коллектора в 4-5 раз, повысить стойкость к импульсной радиации более чем в 40 раз, улучшить электропрочность на 30-40 %;

улучшить время выключения IGBT транзисторов "Экскаватор" в 2,7 раза, обеспечить работоспособность IGBT транзисторов "2Е701" за счет подавления паразитного "тиристорного" эффекта и уменьшить суммарные потери рассеиваемой мощности в 6-8 раз.

Улучшение параметров приборов при использовании РТП значительно расширяет эксплуатационные возможности (теплофизические, импульсно-частотные, радиационные) приборов в аппаратуре.

На защиту выносятся

Экспериментальные результаты по влиянию радиационного технологического процесса с использованием высокоэнергетичных электронов на статические и динамические параметры кремниевых силовых диодных структур и кинетику накопления и отжига "глубоких" радиационных центров, и разработанные на их основе режимы проведения операций облучения и отжига РТП для получения приборов с качественно новым, удовлетворяющим современным требованиям разработчиков преобразовательных устройств, сочетанием электрических параметров и повышенной стойкостью к импульсной радиации.

7 Разработанные режимы проведения операций РТП (облучения быстрыми электронами и последующего термического отжига) для получения силовых биполярных транзисторов Дарлингтона с качественно новым сочетанием импульсных, частотных и усилительных параметров и повышенной стойкостью к импульсной и статической радиации.

Результаты использования операций РТП для восстановления параметри
ческого брака биполярных транзисторов с изолированным затвором за счет по
давления паразитного "тиристорного" эффекта, для получения быстродейст-
' вующих кремниевых приборов с низкими значениями динамической состав-

ляющей мощности рассеяния.

»,

Апробация работы

Основные результаты работы доложены на Ш и IV Всероссийских научно-технических конференциях "Устройства и системы энергетической электроники" (УСЭЭ-2001, УСЭЭ-2002), V Межотраслевой научно-технической конференции "Разработка, технология и производство полупроводниковых микросхем" (г. Зеленоград, март 2002 г.), ежегодных Всероссийских научно-технических конференциях по радиационной стойкости электронных систем "Стойкость" (г. Лыткарино, июнь 2002-2005 гг.). По результатам работы опубликовано 6 печатных работ.

Структура и объем диссертации

Диссертация состоит из введения, четырех глав, заключения и списка литературы. Объем диссертации составляет 154 страницы, содержит 63 рисунка, 25 таблиц и список литературы из 56 наименований.

Похожие диссертации на Применение высокоэнергетичных электронов в технологии силовых кремниевых приборов для улучшения их динамических и статических параметров